正文

目前了,硅片拋光均使用二氧化硅拋光液,其它如氧化鉻、氧化錯、氧化鎂及銅離子拋光液已很少使用,這里不作介紹。二氧化硅拋光液一般由50~100nm 的二氧化硅顆粒的溶膠或凝膠和堿性的水溶液的體系組成。為改善硅片表面性能和穩(wěn)定拋光液的顆粒分散性和懸浮性,還可摻入一些添加劑。拋光液中二氧化硅固體濃度一般在2%~10%。拋光工藝中有的要求粗拋,有的要求精拋,故有粗拋液和精拋液之分。粗拋液顆粒尺寸稍大些,pH 值一般在9.0~9.5;精拋液顆粒尺寸稍小些,pH 值為10.5~11.0。